Tofauti kuu kati ya mchakato wa chemba ya risasi na mchakato wa mgusano ni kwamba mchakato wa chemba inayoongoza hutumia oksidi za nitrojeni za gesi kama kichocheo, ilhali mchakato wa mgusano hutumia vanadium pentoksidi.
Mchakato wa chemba ya risasi na mchakato wa mawasiliano ni michakato muhimu ya kiviwanda tunayotumia kwa utengenezaji wa asidi ya salfa kwa kiwango kikubwa. Hata hivyo, mchakato wa chumba cha kuongoza ni njia ya zamani, na sasa imebadilishwa kwa kiasi kikubwa na mchakato wa kuwasiliana. Ni kwa sababu mchakato wa kuwasiliana ni wa kiuchumi zaidi na hutumia vichocheo vya gharama nafuu; si hivyo tu, mchakato huu hutoa trioksidi sulfuri na oleum pia.
Mchakato wa Chumba cha Uongozi ni nini?
Mchakato wa chemba ya risasi ni mbinu ya zamani ya kutengeneza asidi ya sulfuriki katika kipimo cha viwanda. Hata hivyo, bado hukutana na karibu 25% ya uzalishaji wa sasa wa asidi ya sulfuriki. Hata hivyo, mbinu hii si maarufu sana kwa sasa kwa sababu ya gharama ya juu ya uzalishaji ikilinganishwa na matokeo ya mwisho.
Kielelezo 01: Uzalishaji wa Asidi ya Sulphuric na Nchi Mbalimbali
Zaidi ya hayo, mchakato huu hutumia oksidi ya gesi ya nitrojeni kama kichocheo. Katika mchakato huo, tunahitaji kuanzisha dioksidi ya sulfuri ndani ya vyumba vikubwa pamoja na mvuke na dioksidi ya nitrojeni. Vyumba hivi vikubwa vimefungwa kwa karatasi za risasi. Ndani ya vyumba, kuna mfumo wa kunyunyizia gesi pamoja na maji na asidi ya camber. Kwa ujumla, asidi ya chumba tunayotumia ni 70% ya asidi ya sulfuriki. Kisha tunahitaji kuruhusu dioksidi ya sulfuri na dioksidi ya nitrojeni kufuta katika maji kwa dakika 30. Dioksidi ya nitrojeni huharakisha athari lakini haitumiwi wakati wa kuendelea kwa mmenyuko. Katika chumba hiki, dioksidi ya sulfuri hutiwa oksidi katika asidi ya sulfuriki. Hata hivyo, mchakato huu ni wa hali ya juu sana wa joto na hutoa nishati ya juu ya joto.
Mchakato wa Mawasiliano ni nini?
Mchakato wa kuwasiliana ni mbinu ya kisasa ya kuzalisha asidi ya sulfuriki kwa wingi katika kiwango cha viwanda. Pia, njia hii hutoa asidi ya sulfuriki katika mkusanyiko wa juu. Hapo awali, watu walitumia platinamu kama kichocheo cha athari, lakini kwa sababu ya gharama kubwa, sasa tunatumia vanadium pentoksidi. Umuhimu wa mchakato huu ni kwamba hutoa trioksidi ya sulfuri na oleum pia, na mchakato huo ni wa gharama nafuu sana.
Katika mchakato huo, hatua ya kwanza inajumuisha mchanganyiko wa salfa na oksijeni ili kuunda dioksidi ya salfa. Kisha tunahitaji kusafisha dioksidi ya sulfuri inayozalishwa kutoka kwa kitengo cha utakaso. Ifuatayo, tunapaswa kuongeza ziada ya oksijeni kwa dioksidi hii ya sulfuri mbele ya kichocheo cha vanadium pentoksidi. Hatua hii hutengeneza trioksidi ya sulfuri. Kisha trioksidi hii ya sulfuri huongezwa kwa asidi ya sulfuriki. Inatoa oleum, ambayo ni asidi ya disulfuriki. Hatua ya mwisho ni kuongeza oleamu ndani ya maji, ambayo hutoa asidi ya sulfuriki katika hali iliyokolea sana.
Nini Tofauti Kati ya Mchakato wa Chumba cha Kiongozi na Mchakato wa Mawasiliano?
Kuna michakato miwili mikuu tunayotumia kutengeneza asidi ya salfa: mchakato wa chemba ya risasi na mchakato wa kuwasiliana. Tofauti kuu kati ya mchakato wa chemba ya risasi na mchakato wa mgusano ni kwamba mchakato wa chemba inayoongoza hutumia oksidi za nitrojeni za gesi kama kichocheo, ilhali mchakato wa kuwasiliana hutumia vanadium pentoksidi. Zaidi ya hayo, viitikio kwa ajili ya mchakato wa chemba ya risasi ni trioksidi sulfuri na mvuke wakati viitikio kwa mchakato wa mguso ni salfa, oksijeni na hewa yenye unyevunyevu. Zaidi ya hayo, bidhaa ya mwisho ya mchakato wa chumba cha risasi ni asidi ya sulfuriki, lakini mchakato wa kuwasiliana hutoa trioksidi ya sulfuri na oleamu pia. Kwa hivyo, hii pia ni tofauti kati ya mchakato wa chumba cha risasi na mchakato wa mawasiliano.
Muhtasari – Mchakato wa Chumba cha Kiongozi dhidi ya Mchakato wa Mawasiliano
Kuna michakato miwili mikuu ya utengenezaji wa asidi ya salfa: mchakato wa chemba ya risasi na mchakato wa mguso. Tofauti kuu kati ya mchakato wa chemba ya risasi na mchakato wa mgusano ni kwamba mchakato wa chemba inayoongoza hutumia oksidi za nitrojeni za gesi kama kichocheo, ilhali mchakato wa kuwasiliana hutumia vanadium pentoksidi.
